Session

[A1-A6] 전자/반도체 재료 I

Oral,

G발표회장(스톤홀3),

15:00 ~ 16:30

Chair: 권도균(한국항공대)

A-1

오후 3:00:00

Surface modification for deactivation effect using CH4 plasma treatment

김영준, 정찬원, 송석휘*, 전형탁 (한양대학교 신소재공학과; *한양대학교 나노반도체공학과)

A-2

오후 3:15:00

E-beam을 이용한 Vanadium oxide film의 수직방향 MIT 거동 및 Si/VOx 계면특성 분석

최효빈, 이왕곤, 강현우, 임재성, 신희철, 서형탁 (아주대학교 에너지시스템학과)

A-3

오후 3:30:00

Effect of Particle Agglomeration by Air Bubble during Tungsten (w) CMP Process

김동규, 정연아, 한광민*, 한소영, 진승완, Nagendra Prasad Yerriboina, 김태곤**, 박진구 (한양대학교 재료화학공학과; *한양대학교 바이오나노학과; **한양대학교 스마트융합공학부)

A-4

오후 3:45:00

뉴로모픽 소자 응용을 위한 lithium 소재 기반의 저전력 시냅스 트랜지스터 개발

박지민, 김현석 (충남대학교)

A-5

오후 4:00:00

다양한 펄스 플라즈마를 이용한 식각 기술 향상을 위한 연구

홍종우, 오지수, 김희주, 김정완, 염근영 (성균관대학교 신소재공학과)

A-6

오후 4:15:00

발 표 취 소